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    光  罩  對  準  曝  光  機

       

               update:2014/07/16

中文名稱 光罩對準曝光機 英文名稱 Mask Aligner
儀器廠牌型號 日本共和理研  K-310P-100S 購置年限 2002年81
放置位置 博愛校區奈米中心2樓218室  (TEL:55679)
功能

光罩對準及曝光

重要規格

1.適用光罩尺寸: 5”

2.適用晶片尺寸: 4”

3.曝光源型號ML-251A/B (by USHIO),250W超高壓水銀燈,主波長365nm

4.解析度: 1um

5.電源供應器: HB-25103BY-C (by USHIO)

6.顯微鏡: NIKON

聯絡人

1.儀器負責教授徐文祥 (TEL:03-5712121-55111)

2.儀器負責研究生鍾君煒(TEL:03-5712121-55149)